|
環境設備メーカーの共同カイテック株式会社(本社:東京都渋谷区、代表取締役社長:吉田 建、以下「当社」)は、当社のOAフロア「ネットワークフロア40」において、3D曲面の床(※1)へのOAフロア施工を実現し、「早稲田大学 西早稲田キャンパス」(東京都新宿区)の新設スペースに採用されたことを発表します。 |
|
|
|
|
|
|
|
建築設計の自由度を高める、3D曲面の床への施工 |
|
|
|
電力・情報ケーブルを床内に収納するシステム床であるOAフロアは、従来、オフィス・学校・工場などに導入することがメインのため平面床に施工することが通常です。今回当社は、床面に対してフレキシブルな構造を持つ「ネットワークフロア」を敷設することにより、3D曲面の床(※1)のOAフロア化を実現しました。これにより、建築設計の自由度を高め、快適性と機能性を両立する空間づくりを実現しました。 |
|
|
|
<期待できる建築業界への波及効果> |
|
|
|
• |
|
自由な空間設計の実現:従来制約の多かった床構造に新たな可能性をもたらし、空間設計の自由度を拡大 |
|
|
• |
|
幅広い応用分野:オフィス、公共施設、商業空間など多様な建築分野で展開 |
|
|
• |
|
居住空間の多様化:柔軟な床設計を可能にすることで、居住環境における空間利用の質的向上に寄与 |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
「早稲田大学 西早稲田キャンパス」の新設スペースに採用 |
|
|
|
この度、「ネットワークフロア40」と「クワッドフィックス600」が、「早稲田大学 西早稲田キャンパス」新52号館に納入されました。「早稲田大学
西早稲田キャンパス」は、2032年に早稲田大学創立150周年(理工創設125周年)を迎えるにあたって再整備を行っており、学生の多様な学びの場の拡充のため、より快適で機能的な空間づくりを推進しています。当社製品が採用されたのは、学生のアイデア創出を目的に新設されたフリースペース「ラーニングコモンズ」で、床に傾斜を設けることで、西早稲田キャンパスの緑豊かな中庭を望むことができるよう設計された、最大高低差500mmの傾斜がある3D曲面の床(※1)構造を持つ空間です。当社は、傾斜部には曲面の床にも浮き上がることなく敷設可能で、床下配線に対応する「ネットワークフロア40」を、平面部には軽量で加工性に優れた「クワッドフィックス600」を併用することで、機能性・安全性・歩行感の両立を図りました。 |
|
本件は当社初となる3D曲面の床(※1)へのOAフロア導入事例です。合計約160平方メートル の納入となりました。 |
|
(※1)3D曲面の床:平面ではない、傾斜や、緩やかな凹凸を持つ床のこと |
|
|
|
|
|
|
ラーニングコモンズ内観 |
|
|
|
|
|
|
敷設された「ネットワークフロア40」 |
|
|
|
|
|
|
|
傾斜に施工 |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
導入製品について |
|
|
|
「ネットワークフロア40」 |
|
|
|
|
|
|
|
「クワッドフィックス600」 |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
共同カイテックについて |
|
|
|
当社は1950年11月に創立より75周年を迎える環境設備メーカーです。「人と社会に快適テクノロジー」をミッションに、持続可能な未来を目指して、以下の3事業を展開しています。 |
|
|
|
|
|
• |
|
バスダクト事業:大規模施設の電力供給を担うバスダクト。当社は現存するメーカーの中で最も長い歴史を有し、国内シェアNo.1(2025年9月時点 当社調べ)を維持しています。 |
|
|
|
|
• |
|
フロアシステム事業:電力・情報ケーブルを床内に収納するシステム床。累計納入面積は2000万平方メートル に達し、これは東京ドーム(※2)約426個分に相当します。業界トップクラスのシェアを誇るメーカーとして、日本のオフィス環境の進化を支え続けています。 |
|
|
|
|
• |
|
緑化事業:建築物の断熱性向上や景観改善を目的としたグリーンインフラ。累計緑化施工面積は48万平方メートル を超え、これは東京ドーム(※2)約10個分に相当します。屋上緑化・壁面緑化の普及を推進し、潤いのある豊かな都市環境づくりに貢献しています。 |
|
|
|
|
|
(※2)東京ドーム:約4.7ha |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
【会社概要】 |
|
|
|
社名 :共同カイテック株式会社 |
|
所在地:東京都渋谷区恵比寿4-20-3 恵比寿ガーデンプレイスタワー |
|
代表者:代表取締役社長 吉田 建(よしだ たてる) |
|
設立 :1950年11月20日 |
|
ホームページ:https://www.ky-tec.co.jp/
|
|
|
|