サン工業、学会発表で「耐フッ酸めっき」開発進捗を報告
半導体製造の効率化とコスト課題解決への貢献を目指す
めっき技術のサン工業株式会社（本社：長野県伊那市、代表取締役社長：川上 健夫）は、この度、半導体製造工程における課題解決に向け、開発中の「耐フッ酸めっき（無電解Ni-Wめっき）」について、最新の開発進捗と研究成果を「表面技術協会第153回講演大会」にて報告いたしました。
サン工業は、高まる半導体需要に応え、製造コストの課題解決と装置の長寿命化を実現することで、持続可能な産業発展への貢献を目指してまいります。
 
1. 高まる半導体需要の陰に潜む、製造現場の課題解決へ
AI、Iot、5G/6G、自動運転といった先端技術の進化に伴い、世界的に半導体への需要が急拡大しています。DX（デジタルトランスフォーメーション）が加速する中、半導体チップは多くの産業にとって不可欠な基幹部品であり、その製造能力の向上は課題となっています。
半導体製造工程の一つである「フッ酸洗浄・エッチング」では、シリコンウェハーの酸化物除去に強力な腐食性を持つフッ酸が使用されます。このため、装置の金属部品が劣化・腐食しやすく、高価な貴金属による表面処理や、特殊な耐食合金、高機能樹脂などを採用せざるを得ない状況です。これが、製造コストの増加やメンテナンス頻度の高まりを招き、半導体メーカーにとっての課題となっています。サン工業は、この課題に対し、長年培ってきためっき技術を応用した「耐フッ酸めっき」の開発により、半導体製造の安定化とコスト低減への貢献を目指しております。
 
2. サン工業が開発を進める「耐フッ酸めっき」の可能性
サン工業は、この半導体製造における課題解決に向け、腐食に強く、熱処理により高硬度を両立する新しい無電解めっき技術「耐フッ酸めっき（無電解Ni‐Ｗめっき）」の開発を進めております。この新しいめっき技術が実用化されれば、従来の高価な特殊素材に代わる、より経済的で高性能な代替素材となる可能性を秘めていると考えております。
当社の「耐フッ酸めっき」は、以下の特長により、半導体製造現場への貢献が期待されます。
 
・耐フッ酸性：
　過酷なフッ酸環境下でも優れた耐食性を発揮し、装置部品の劣化抑制に貢　献します。
・熱処理による高硬度：
　耐摩耗性にも優れ、精密な半導体製造装置の信頼性と耐久性向上に寄与します。
・コスト削減への貢献：
　高価な特殊素材の使用を削減することで、半導体製造コストの低減が期待されます。
・装置の長寿命化と安定稼働への貢献：
　部品の交換頻度を減らすことで、生産ラインの稼働率向上と維持管理コストの削減を目指します。
汎用無電解ニッケルめっきと耐フッ酸めっきの浸漬試験結果
 
3. 学術発表で報告された技術進捗と今後の展望
当社の「耐フッ酸めっき」の開発においては、その技術的な取り組みとして、2026年3月10日に開催された表面技術協会第153回講演大会にて、具体的な進捗を報告いたしました。開発課の水品愛都と河合陽賢が「無電解Ni‐W合金めっきの開発と耐ハロゲン性の評価」と題して技術講演を行い、その優れた特性や評価結果について詳細な発表を行いました。
サン工業は、この学会を通じて得られた知見と評価を基に、半導体製造装置部品への実用化に向けたさらなる研究開発を加速してまいります。本技術が幅広い半導体関連分野で活用されることで、国際的な半導体競争力強化の一助となることを目指します。
 
【サン工業株式会社について】
サン工業株式会社は1949年の創業以来、半導体機器、自動車部品、産業機械へのめっき、パッシベーション等の表面処理技術の開発・提供を通じて、日本のモノづくりと世界の産業を牽引しています。20種類以上のめっきに対応する40ラインのめっき設備を有し、品質マネジメントシステム認証ISO9001・IATF16949を取得することで、高品質な表面処理技術でお客様の多様なニーズに応え続けています。
 
本社所在地：長野県伊那市西箕輪大芝原2148-186
設立：1949年
代表者：代表取締役社長 川上 健夫
資本金：9,000万円
事業内容：半導体機器、自動車部品、産業機械へのめっき、パッシベーション等の
表面処理技術の開発・提供。
公式サイト：https://www.sun-kk.co.jp/