・韓国のSKハイニックス社が先進的なDRAM製造工程に超高速インライン原子間力顕微鏡（AFM）「Metron(R)3D」を採用
 
・Metron(R)3Dは一般的なAFMの10倍の速度で画像を生成できるため、高速な量産工程（HVM）に最適
Infinitesimaは、フルスタックAIメモリ・プロバイダのSKハイニックスが300mm対応のインライン・ウェハ計測システム「Metron(R)3D」を採用し、量産工程での運用を開始したと発表しました。サブ・ナノメートルの精度で3Dプロセスを制御できるMetron3Dは、SKハイニックスの次世代メモリ製造工程において重要な役割を担います。
 
本システムは、複数のプロセス工程における特性評価を受けた後、厳格な検証期間を経て量産導入に至りました。
 
DMI（欠陥解析・計測・検査技術）責任者のYoung-Hyun Choiは「ナノレベルでの3次元プロセス制御は最先端のDRAM製造における歩留まり向上の鍵となっており、その重要性は今後さらに増します」と述べ、さらに「InfinitesimaのMetron(R)3Dはサブ・ナノメートル精度の優れた3D計測性能を示し、所有コストもHVM実装に適しています」と語りました。
 
Metron(R)3Dは、Infinitesima独自のRapid Probe Microscope(TM)（RPM(TM)）技術を搭載し、一般的なAFMの10倍～100倍のスループットで計測可能です。ウェハ、データ、プローブの完全自動処理機能も搭載しており、半導体デバイスのインライン量産に最適です。SKハイニックスがこの計測技術に投資したことは、コンピュータ・メモリの開発・製造における技術的優位性を維持することへの強いコミットメントを示しています。
 
Infinitesimaの代表取締役社長 兼 CEOのPeter Jenkinsは「SKハイニックスに当社製品を採用していただき、感謝しています。サポートと助言をいただいたことで、Metron(R)3Dの迅速な認証およびHVMへの導入が実現しました」と語りました。
 
Infinitesimaについて
 
Infinitesima Limitedは、英国を拠点とする半導体業界向けの高度な計測ソリューションのリーダーです。当社は原子間力顕微鏡の3次元表面検出機能、高速レーザー活性化、高精度の干渉計を組み合わせた、革新的なテクノロジー「ラピッド・プローブ・マイクロスコープ（RPM）」を開発しており、これは広範な特許ポートフォリオによって保護されています。
 
半導体業界では、光学/電子ビーム技術による対応が困難な次世代プロセスの管理に対応するため、高精度な3D計測ソリューションへのニーズが増大しています。Infinitesimaは、特許技術RPM(TM)を搭載した高速計測システム「Metron(R)3D」を発表しており、インラインでのサブ・ナノメートル*3Dプロセス制御のニーズの高まりに応えています。詳細については、www.infinitesima.comをご覧ください。
 
*1ナノメートル（nm）は10−9です。シリコン原子の直径は約0.2 nmです。
 
SKハイニックスについて
 
韓国に本社を構えるSKハイニックスは、世界トップクラスの半導体サプライヤとして、DRAMおよびNANDフラッシュを幅広いグローバル顧客に提供しています。当社の株式は韓国証券取引所で取引されており、グローバル預託株式（GDS）はルクセンブルク証券取引所に上場しています。SKハイニックスについて詳しくは、www.skhynix.comとnews.skhynix.com をご覧ください。